VUV-VASE®(真空紫外域多入射角分光エリプソメーター)

真空紫外域多入射角分光エリプソメーター(VUV-VASE)は、リソグラフィー用薄膜の光学特性評価でもっとも信頼できる検査装置です。真空紫外(VUV)から近赤外(NIR)までの広い波長範囲を測定できるため、半導体や誘電体、ポリマーや金属といった単層膜や多層膜、そして液浸用溶液のような液体まで、多くの材料を評価することができます。

VUV-VASEの特徴

広い波長範囲

VUV-VASEは140nm以下から2500nmまでの広い波長を測定できます。
(1100nm~1700nm, 1100nm~2500nmはオプションで対応可能)

高い測定精度

自動位相調整器(Auto Retarder®)(特許取得済)を使用しているため、サンプルの種類にかかわらず高い精度での測定が可能となりました。

簡単なサンプル操作

装置に充填されている窒素濃度を下げないための特別な設計が施されているため、サンプルの設置をすばやく行うことができます。

サンプルの保護

サンプルのすぐ手前に分光器が設置されているため、感光性材料への光の照射を最小限に抑えることができます。

リソグラフィーへの応用

リソグラフィー薄膜はVUV-VASE®の開発や発展には欠かせないものでした。
以下に挙げるような様々な材料評価にVUV-VASEは使用され、高い評価を得ています。
• フォトレジスト
• 底面と上面の反射防止膜
• フォトマスクのコーティング膜
• ハードマスク
• ステッパー用光学部品のコーティング膜
• ペリクル
• CaF2光学素子
• その他、様々な材料

フォトレジスト

リソグラフィーの全ての露光波長(157nm, 193nm, 248nm… )の屈折率(nとk )と薄膜の膜厚を測定します。

photoresist-graph-for-vuv-vase

仕様

装置概要 自動位相調整器付 回転検光子
波長範囲 VUV-VASE (Standard) 146-1100nm
VUV-VASE+NIR 146-1700nm
VUV-VASE+XNIR 146-2500nm
測定波長数 任意で設定可能
入射角範囲 10° to 90° (146nm to 310nm)
25° to 90° (310nm to 2500nm)
データ取得時間 1波長当たり1-3秒

必要設備

電源 100 VAC, 50/60Hz, 15 A
使用ガス 詳細はジェー・エー・ウーラム・ジャパンへお問合せ下さい.

寸法

vuv-vase-dimensions

VUV-VASE Gen IとGen IIの違いは何ですか?
Gen Iで測定可能な最大サンプルサイズは200mmです。一方でGen IIは300mmまで測定可能でマッピング測定にも対応しています。

使用するソフトウェアはCompleteEASEとWVASEのどちらですか?
WVASEです。

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