alpha 2.0（簡易高速分光エリプソメーター）
alpha 2.0 は、薄膜の膜厚や屈折率の日常的な測定に適した手頃な価格の分光エリプソメーターです。分光エリプソメトリー技術を活かしながらalpha 2.0 を簡単にご使用いただくために、コンパクトな設置面積とシンプルなデザイン、そして使いやすさを重視して設計されています。サンプルをステージに置き、膜に合ったモデルを選択し、測定ボタンを押すだけで、数秒以内に結果が得られます。
alpha 2.0の特徴
簡単操作
簡単なボタン操作、高性能なソフトウェアにより慣れていない方でも安心して使用できます。
高性能
実績のある分光エリプソメトリー技術が、他の技術よりもはるかに高い精度の膜厚と光学定数を提供します。
柔軟性
誘電体・半導体・有機物などあらゆる物質を測定できます。
低コスト
高性能な分光エリプソメーターを低コストで手に入れることができます。
高速測定
高速での多入射角測定が可能であり、190波長分のデータを瞬時に取得することが可能です。
透明膜
alpha 2.0は測定スピードが速く操作性が良いため薄膜の評価に理想的です。シリコンやガラス基板上の単層誘電体膜もほんの数秒で測定できます。得られた結果は図および表形式で表されるので比較も容易です。
成膜条件が異なるSiNx膜の膜厚や光学定数の比較も素早く出来ます。
For organic layers on golf, the phase parameter (Delta) shifts downward with increasing thickness.
自己組織化単分子膜
分光エリプソメトリー測定で得られる位相に関する情報は、極薄膜（＜10nm）に対して非常に高い測定感度を示します。例えば、自己組織化単分子膜のほんのわずかな膜厚の違いであっても、alpha 2.0により評価やデータ比較をすることが可能です。
金基板上の有機層では位相パラメータ（Δ）が膜厚の増加とともに下方へシフトします。
吸収膜
高度なモデルが吸収を持つ様々な物質を素早くそして効率的に解析することを可能にします。
Materials• a-Si |
Models• Lorentz |
ガラス上のコーティング
私たちの特許技術によって金属や半導体、ガラスといったどのような基板上でも正確な測定が可能になりました。alpha 2.0は透明基板の裏面から戻ってくる光の影響を補正するため、デポラリゼーション（偏光解消）も測定します。他のエリプソメーターの中にはこのような光に悩まされるものもありますが、alpha 2.0では正確な膜厚と光学定数を求めることができるのです。
alpha 2.0を用いると反射率測定では得ることのできない微細構造の詳細までも知ることが可能です。ここでは酸化ジルコニウムの薄膜が測定され、屈折率が基板と膜表面の間で変化しているのがわかります。表面ラフネスと屈折率勾配を組み合わせたモデル（緑の部分）がこのサンプルを最もよく表現しています。
仕様
| 装置概要 | 二重回転光学素子型 |
| 波長範囲 | 400-1000 nm |
| 測定波長数 | 190 |
| ディテクター | CCD |
| 入射角範囲 | 65°, 70°, 75° or 90° (straight-through) |
| データ取得時間 (Complete Spectrum) |
5-10 秒 |
| サンプルサイズ | 直径〜200mm、厚さ〜16mm |
必要設備
| 電源 | 100 VAC, 50/60Hz, 15 A |
寸法
| 幅 | 476mm |
| 奥行 | 324mm |
| 高さ | 311mm |
上位機種（RC-2やM-2000シリーズ）と比較した時のalpha 2.0のメリット、デメリットは？
alpha 2.0はよりコンパクトかつシンプルに設計されています。上位機機種と比べると測定波長範囲が限定されます。膜厚の管理や可視光域の光学定数を求めるのには十分です。
チャンバーに取り付けてin-situで使用することは可能ですか？
alpha 2.0ではできません。
使用するソフトウェアはCompleteEASEとWVASEのどちらですか？
CompleteEASEです。