VUV-VASE^®

J.A.ウーラム社の第２世代の商品として、設計された真空紫外域のエリプソメーターは、大きなサンプルやフォトマスク、ウェハーの面内分布測定に対応しています。

^{第２世代 VUV-VASE®}

J.A. ウーラム社のVUV-VASE®は、2000年にR&D Award を受賞しました。受賞の理由は、革新的な窒素充填システムによって分光エリプソメトリーの測定領域を 140nm以下という真空紫外域にまで拡張したというものです。今、J.A.ウーラム社は、次世代のVUV-VASEを供給しています。その新しいエリプソメーターは、真空紫外域で使える大きなサンプルステージをもち、 300mmまでの大きさのサンプルの透過データや面内分布の計測が可能です。これらの新しいオプションを装備した第２世代のVUV-VASEで様々な産業用途を見つけ出せるでしょう。

この広い波長範囲を持つ VUV-VASEは、様々な物質(例えば半導体、電気化学、ポリマー金属、多層膜など)の多様な性質を研究する事ができるでしょう。なぜなら、VUV-VASEエリプソメーターは、短い波長で測定する為にとても薄い膜に測定感度があり、またリソグラフィーで多く使われる波長(157nm, 193nm, 248nm)で、nとkが測定できます。

この装置は、大気中で測定するDUV-VASE (190nm-1700nm) の技術に基づいています。 短波長の測定範囲を広げる為に、従来のキセノンランプとフォトダイオード検出器に加えて、 重水素ランプと光電子増倍管（PMT）が装着されました。 これにより、リソグラフィーで有用な193nmの深紫外における信号のノイズに対して信号が増幅されます。

光は 真空紫外（VUV）領域では、酸素と水蒸気によって吸収されます。 そのため、装置全体がドライ窒素によってパージされなければなりません。 ロードロックにより水蒸気と酸素が装置に逆戻りすることなくサンプルチャンバーへのアクセスが容易になりました。この装置はダブルチャンバーの HS-190^TM 、モノクロメーターを使用しています。加えて、 弊社特許の AutoRetarder^TMも標準装備しています。

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