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サンプル測定サービス
         このサービスは、日本国内のサービスとさせて頂きます           

J.A.ウーラム社の測定解析室は、1990年以来、世界的な技術的コミュニティに貢献してきました。弊社測定解析室には、あなたの材料の特性を正確に解析するために、弊社の最高レベルの分光エリプソメーターと、経験豊かな技術者がいます。お客様に、有益な測定結果を提供します。

ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社では, 測定頻度の少ないお客様や 機器購入に御予算の無いお客様には低コストでの有償測定サービスを行っております。 (VASE測定の評価又は機種選定に関わるサンプル測定は、 基本的に無料で行なわせて頂きます)

弊社では、分光エリプソメトリーの新しい分野への開発に 常に取り組んでおります。すでに数百種類にも及ぶサンプルの測定依頼を受けており、 これらの経験は弊社の基礎となっていると考えております。 もし複雑なサンプルなどでご不明な点がございましたらお気軽に弊社のエンジニアまでお問い合わせ下さい。

薄膜サンプル測定サービス:

  • 薄膜試料の膜厚及び光学定数の測定

  • バルク試料の光学定数の測定


測定条件

M-2000V測定 (可視領域)
波長範囲 : 370nm-1000nm (390波長)
入射角 : 3入射角(任意の入射角)
M-2000U測定 (紫外−可視領域)
波長範囲 : 245nm-1000nm (470波長)
入射角 : 3入射角(任意の入射角)
M-2000D測定 (深紫外−可視領域)
波長範囲 : 193nm-1000nm(500波長)
入射角 : 3入射角(任意の入射角)
赤外分光エリプソメーター(IR-VASE)測定
測定波長範囲 : 2-33μm(333−500cm-1
近赤外域測定
上記のいずれかの測定範囲に近赤外波長領域(1000nm-1700nm)の110波長を追加して測定解析を行います。
集光ビームによる測定
上記測定は、ビームの大きさが 2×8mm の楕円です。装置に集光光学系を取り付けてこれを 0.5×1.2mm 程度に絞ることができます。
面内の膜厚分布測定
上記のいずれかの測定により光学モデルを決定した後にサンプル面内の膜厚分布測定をします。測定点数は別途ご確認願います。
透過強度データ
0度の透過データ : 各測定に透過データを組み合わせて解析します。


注1)上記測定範囲(波長・入射角)と異なる場合は別途ご相談ください。又サンプル数が多い場合は別途御見積させていただきます。異方性物質の測定・解析は別途御相談ください。

注2)多層構造サンプルの測定について
自動多入射角分光エリプソメータ(VASE)でサンプル測定を、 より精度良く行う為以下の点に留意して試料の御提供をお願い致します。

<基板>


基板材料は、 光学定数が既知の物質が最適です。(「Handbook of Optical Constants of Solids」E.D.Palik、 Ed.等の文献に載っている物質)


一般的には、「Si」「GaAs」等の基板、 または「石英ガラス」「BK7」等の透明基板が用いられます。
未知の基板又は仮想基板(多層構造の基板を仮想的に基板とみなす場合)の場合は、 基板のみの御提供をいただければ、それを測定いたします。

<単層構造のサンプル>

多層構造を構成する各層が、 単層で上記既知基板上にある試料の御提供を御願い致します。この単層サンプルにより各層の光学定数を測定し、 多層サンプルの測定に使用します。
注)以下の場合は、 この限りではありません。

  1. SiO2など文献値と同じと思われる層
  2. AlGaAsなど臨界点シフトアルゴリズムで表される層

<多層構造サンプル>

上記1.および2.で決定した光学定数を使用し、 多層構造サンプルの解析が可能となります。

薄膜サンプル測定のポイント

  • 193-1700 nm ( 0.73-6.5 eV ) の波長範囲
    及び2−33μm(333−500cm-1

  • Delta を 0度から360度まで測ります
    オプションの AutoRetarderを使います。

  • 12インチまでサンプル マッピングができます
    更に大きいサイズも、エンジニアとご相談ください。

  • 小さなスポットフォーカスビームもできます
  • 低価格。お問い合わせください

測定サービスに使用する機器:


IR-VASE®
(2μm-30μm)

M-2000D
(193nm-1700nm)

V-VASE®
(193nm-1700nm)

Variable Angle Spectroscopic Ellipsometry (VASE®
多入射角分光エリプソメトリーの適用例:
バルクガラス、及び、半導体基板
  広い波長範囲にわたって屈折率 ( n & k ) が測定できます。
薄い誘電体の表面層:
  自然酸化膜、または表面粗さ
金属膜
多層膜
  分光エリプソメーターの特徴的な分野です
有機膜
  Langmuir-Blodgett膜
異方性膜
リソグラフィー分野
  フォトレジスト
ARC ( 反射防止膜 ) 、有機膜と、無機膜
透明導電酸化物 ( TCO )
  インジウムスズ酸化膜 ITO
ZnO
SnO2
フラットパネルディスプレイ
化合物半導体
  単層・多層膜の膜厚と共に様々な物質の混晶比を求めます。

測定サービスに関するお問い合わせ: service@jawjapan.com

 

 

 

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