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製品紹介

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VASE

VUV-VASE

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M-2000

FP-M2000

MASE
 

 

 

均一性の面内分布測定

 

サンプル表面の均一性の面内分布をエリプソメトリーで測定解析したパラメーターで表示することができます。高速測定が可能なM-2000®は、面内分布測定に最適な装置です。
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面内分布測定の利用例:

厚さの均一性の面内分布測定

屈折率の面内分布測定。特に重要な波長における屈折率の面内分布測定 ( 193nm、248nm、1330nm、1550nmなど )

導電性の酸化物の抵抗率の面内分布測定

結晶性の面内分布測定 

その他

面内分布測定の例

自動、または手動の面内分布測定オプション
自動制御のサンプルステージ
1 100mm by 100mm XY
2 200mm R-Theta
3 300mm R-Theta
4 350mm by 400mm XY (M-2000 Flatpanel)
5 370mm by 470mm XY (M-2000 Flatpanel)
手動のサンプルステージ
1 25mm by 25mm XY
2 50mm by 50mm XY

* 移動サンプルステージは、弊社のエリプソメーター全てに利用可能です。詳細は、別途お問い合わせ下さい。

 

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