多くのディスプレイアプリケーションは、同じ様な材料で構成されています。エリプソメトリーは、以下の膜厚、光学の特質を決定するために使われます。

 Flat Panel M-2000^®

大きな自動面内分布ステージを持つM-2000^® はフラットパネルへの適用に最適です。
すばやくデータが取れるので、生産環境に適しています。
M-2000^®の回転補償子はガラス上の薄膜測定に最適です。

面内分布測定:

• 薄膜の厚さ ( ITO、Poly‐Si、SiO₂、SiN、多層膜、その他 )

• ITO抵抗力

• ポリ‐Si結晶のような状態

• 組成率

MASE^TM

VASE^®

193から2200nmまでの波長範囲で測定する研究に
適したエリプソメーターです。 

測定能力:

• エリプソメトリックデータ ( 反射、及び、透過 )

• 透過強度 ( 偏光、無偏光 )

• 反射強度 ( 偏光、無偏光 )

• 偏光解消率

• 異方性データ ( s‐からp‐、及び、p‐からs‐への変化量 )

• ミューラー行列

• スキャッタメトリー

• 位相遅延

IR-VASE^®

赤外域のエリプソメトリーに最適です。  

• 窒化物、酸化物、シリコンの水素化レベル、酸窒化膜の測定

• 有機膜や無機膜の分子結合吸収の研究

M-2000^®