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以下は、真空紫外域(VUV)エリプソメトリーの応用技術に関する論文です。この新らしい技術は、リソグラフィーに最も利用される193nmと157nmに利用されています。それらは、ハイバンドギャップ半導体の研究や極薄膜の特性解析に応用されます。 |
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Further VUV ellipsometry sources include:
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N. V. Edwards, "Materials characterization with VUV
ellipsometry", Semiconductor Fabtech, 18 (2003) 119-124.
J. Hilfiker, "VUV Ellipsometry", Chapter
10 in Handbook of Ellipsometry, eds. H. G. Tompkins and E. A.
Irene, Noyes Press, Park View, in print.
J. Barth, R. L. Johnson, and M. Cardona,
"Spectroscopic Ellipsometry in the 6-35 eV Region", Chapter 10 in
Handbook of Optical Constants of Solids II, edited by E. D. Palik,
Academic Press, San Diego, (1991) 213-246.
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