M-2000®の回転補償子の設計により複雑な試料に対する高度なデータを得ることが出来ます。異方性やミューラー行列の測定はサファイアや引き伸ばしたフイルムのような異方性物質の解析に必要とされます。偏光解消の測定では、不均一な膜厚、パターンのある層、コヒーレントでない裏面反射などの偏光解消効果を定量化することが出来ます。これらの高度な測定はM-2000®を広範囲な応用分野で使用できる優れた測定装置にしました。
大きな膜厚のムラ
ポリマーの2軸異方性 (全ての3光学軸に異なった光学定数を持つ)
異方性測定
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