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クイックアンサー:
エリプソメーターは薄膜の解析を行う為に、PsiとDeltaであらわされる偏光の変化を測定します。
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さらなる説明:
前の章で述べたようにエリプソメーターは、光が試料と相互作用することによって起こる偏光の変化であるPsiとDeltaの２つの値を測定します。 これらの２つの値それ自体は、試料の特徴を表すことには役立ちません。私達が必要としているのは膜厚や光学定数や屈折率など他の役立つ情報です（図１参照）。これらの情報は測定されたPsiとDeltaを用いて 様々な方程式やアルゴリズムで光と試料の相互作用を記述するモデルを作り出すことによって得られます。これらの手順の詳細は後の章である
データ解析で述べます。
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図 １
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エリプソメトリーは、 図1に示す特性を求めるだけでなく物質の光学定数が変化するどのような効果にも用いられます。このことがエリプソメトリーをさまざまな工業分野で適用された幅広い技術にしています。下の表はエリプソメトリーの主な適用分野を示したものです。.
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工業分野 |
アプリケーション |
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半導体 |
157nmリソグラフィー、極薄ゲート膜 |
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通信 |
LED、ﾚｰｻﾞｰﾀﾞｲｵｰﾄﾞ、DWDMﾌｨﾙﾀｰ、導波路、 ﾚｰｻﾞｰﾀﾞｲｵｰﾄﾞや受光器の反射防止膜や反射膜 |
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データストレージ |
ハードディスクの読書きヘッドのDLC膜 |
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フラットパネルディスプレイ |
SiNx, a-Si, poly-Si, OLED,
液晶 |
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化学・生物学 |
蛋白質吸着、L-B膜、自己集結単層膜 |
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光学コーティング |
単層や多層ｺｰﾃｨﾝｸﾞ、ﾌｨﾙﾀｰ、ﾋﾞｰﾑｽﾌﾟﾘｯﾀｰ等 |
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In-Situ |
ｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞ、CVD、PVD、MBE、RIEやECRｴｯﾁﾝｸﾞ等のﾘｱﾙﾀｲﾑﾌﾟﾛｾｽﾓﾆﾀｰ |
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